华中科技大学主页平台管理系统卢红成--中文主页-- Tan, T.; Liu, Z.*; Lu, H.; Liu, W.; Yan, F., Chemical Structure and Electrical Properties of Sputtered HfO2 Films on Si Substrates Annealed by Rapid Thermal Annealing. Vacuum 2009, 83(9), 1155-1158;

卢红成

研究员（自然科学）

博士生导师

硕士生导师

性别：男

在职信息：在职

所在单位：化学与化工学院

学历：研究生(博士)毕业

学位：工学博士学位

学科：无机化学
材料学
材料物理与化学

同专业博导同专业硕导团队成员

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论文成果

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Tan, T.; Liu, Z.*; Lu, H.; Liu, W.; Yan, F., Chemical Structure and Electrical Properties of Sputtered HfO2 Films on Si Substrates Annealed by Rapid Thermal Annealing. Vacuum 2009, 83(9), 1155-1158;

发布时间：2019-03-08 点击次数：

上一条：Jia, W.; Hu, J.; Ouyang, Z.;* Zhou, Y.; Lu, H.;* Wang, Z.*; Structure and 1/2-like magnetization plateu in a Seff=1/2 skew chain compound [Co2(CH3O-ip)(COOH)2(H2O)]n, Cryst. Growth Des. 2022, 22, 5, 3148–3153

下一条：Tan, T.; Liu, Z.*; Lu, H.; Liu, W.; Yan, F.; Zhang, W., Band Structure and Valence-Band Offset of HfO2 Thin Film on Si Substrate from Photoemission Spectroscopy. Appl. Phys. A 2009, 97(2), 475-479;

地址：湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号邮政编码：430074

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