Xin Guoqing

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国家脉冲强磁场科学中心,教授,博士生导师,国家高层次人才项目入选者。

2019年和2011年分别获得山东大学化学专业学位、韩国成均馆大学化工专业硕士学位。2012年进入美国伦斯勒理工学院机械航空与核能学院攻读博士学位,并于2016年获得伦斯勒理工学院机械工程博士学位。

2016年至2017年,在美国伦斯勒理工学院从事博士后研究。2017年至2019年就职于格罗方德半导体股份有限公司(GlobalFoundries,全球第二大半导体芯片生产商),职位为高级工程师,负责先进半导体芯片制程的优化和研发2019年全职回国加入华中科技大学国家脉冲强磁场科学中心。

研究方向包括:

(1)二维材料生长、微纳器件制备、微尺度传热和器件热管理;

(2)功率电子器件(SiC/GaN)封装材料,包括高导热、绝缘、耐高温封装材料;

(3)宽禁带半导体(SiC/GaN/BN)薄膜生长、器件制备以及模块热管理;

(4)先进半导体制备工艺;

在相关领域取得了一系列突出成果,在Science,Nature Nanotechnology,Nature Communication 等知名国际期刊发表论文40余篇。其中以第一作者/通讯作者发表论文11篇,包括1篇Science,一篇Nature Nanotechnology, 1篇Advanced Materials,1篇Advanced Functional Materials。总计引用次数超过1500次,h-index 为16。曾获2016年国家优秀自费留学生奖学金,2016年“The Karen & Lester Gerhardt Prize in Science and Engineering(RPI)”, 2016年美国材料学会研究生银奖,2019年Globy Award in Globalfoundries。