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Large-area High Aspect-ratio Plasmonic Interference Lithography Utilizing Single High-k Mode
点击次数:
论文类型:期刊论文
发表刊物:ACS Nano
卷号:10
期号:4
页面范围:4039–4045
发表时间:2016-04-13
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发表刊物:ACS Nano
卷号:10
期号:4
页面范围:4039–4045
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