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XIA LIANG

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一种基于应力的启发式结构离散拓扑优化设计方法

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Affilication of Author(s):机械科学与工程学院

School Sign:华中科技大学

Patent Applicant:夏凉,夏奇,史铁林

Disigner of the Invention:夏凉,夏奇,史铁林

Patent description:本发明属于结构拓扑优化相关技术领域,其公开了一种基于应力的启发式结构离散拓扑优化设计方法,其包括以下步骤:(1)对设计域进行有限元离散,并计算获得位移结构响应及应力结构响应;(2)通过P范数法凝聚有限元离散单元以得到全局应力测度,并求解得到伴随解;(3)计算获得有限元离散单元的灵敏度指数;(4)更新所述离散拓扑设计变量;(5)对离散拓扑设计变量进行过滤处理;(6)根据离散拓扑设计变量更新有限元模型的单元材料模型,重复以上步骤直至许用材料用量分数达到设定的许用材料用量分数且优化构型稳定收敛。本发明采用离散设

Type of Patent:Invent

Application Number:201710880717.3

Number of Inventors:3

Application Date:2017-09-26

First Author:夏凉

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