个人信息
Personal information
教授 博士生导师
所在单位：集成电路学院
学历：研究生(博士)毕业
学位：博士学位
毕业院校：华中科技大学
学科：微电子学与固体电子学曾获荣誉：
2024 华中科技大学青年五四奖章
2022 华为奥林帕斯先锋奖
2020 湖北省技术发明一等奖（排名第2）
2013 湖北省年度“十大科技事件”
2013 湖北省优秀博士学位论文
2014 湖北省优秀学士学位论文指导教师
2015 华中科技大学教师教学竞赛二等奖
2017 华中科技大学光学与电子信息学院“我最喜爱的教师班主任“
2020 华中科技大学光学与电子信息学院突出贡献一等奖
论文类型：期刊论文
第一作者：何超
通讯作者：缪向水,童浩
合写作者：陈超,杨哲
发表刊物：Applied optics
所属单位：华中科技大学
学科门类：工学
一级学科：电子科学与技术
文献类型：J
卷号：59
期号：18
页面范围：5547-5552
DOI码：10.1364/AO.393682
发表时间：4397-07-01
摘要：Phase-change lithography (PCL) is expected to become the next generation of mainstream lithography for its high efficiency, non-toxic nature, and maskless technique. However, the low resolution of current PCL limits its practical application. We propose to use FeMoCrCBY metallic glass film as a high-resolution photoresistor in PCL, which can greatly improve the resolution more than other metallic glasses because of its high heat capacity and crystallization temperature. Thermal distribution in FeMoCrCBY indicates that the feature size of the phase transition region can controllably be made smaller. For example, the size of micro-patterns observed by scanning electron microscope (SEM) is around 1.3 µm. The resolution can be further improved by reducing the laser spot size. Our results show that metallic glass film FeMoCrCBY is a promising photoresistor for high-resolution PCL.
发布期刊链接：http://dx.chinadoi.cn/10.1364/AO.393682