Self-Aligned Patterning of Tantalum Oxide on SiO2/Cu through Redox-coupled Inherently Selective Atomic Layer Deposition
发布时间：2023-07-26
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- 论文类型：
- 期刊论文
- 第一作者：
- Yicheng Li,Zilian Qi
- 通讯作者：
- Kun Cao,Rong Chen
- 合写作者：
- Yuxiao Lan,Yanwei Wen,Jingming Zhang,Eryan Gu,Junzhou Long,Jin Yan,Bin Shan
- 发表刊物：
- Nature Commun.
- 收录刊物：
- SCI
- 卷号：
- 14
- 页面范围：
- 4493
- 发表时间：
- 2023-06-26