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一种基于等离子体增强原子层沉积的薄膜掺杂改性方法

发布时间:2022-03-22
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所属单位:
华中科技大学
学校署名:
华中科技大学
发明设计人:
何文杰,段晨龙,褚波,单斌,文艳伟
专利类型:
发明
授权号:
ZL201310636874.1
发明人数:
6
授权日期:
2015-09-23
第一作者:
陈蓉

陈蓉

教授 , 博士生导师 , 硕士生导师