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Etch and passivation for high aspect ratio features

发布时间:2022-03-22
点击次数:
发明设计人:
Tae Won Kim,Nicolas Gani,Anisul H. Khan
专利类型:
PCT或外国申请
授权号:
US 11/749,957
发明人数:
4
授权日期:
2007-05-17
第一作者:
Rong Chen

陈蓉

教授 , 博士生导师 , 硕士生导师