Atomic Layer Deposition Device for Massively coating Micro-nano particles
发布时间：2022-03-22
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- 所属单位：
- 华中科技大学
- 学校署名：
- 华中科技大学
- 发明设计人：
- Jiawei Li,Bin Shan,Xiao Liu,Kai Qu,Jing Zhang
- 专利类型：
- PCT或外国申请
- 授权号：
- (ZL201810614143.0) US Patent Application: 16/615,060, PCT/CN2019/082668
- 发明人数：
- 6
- 授权日期：
- 2019-04-15
- 第一作者：
- Rong Chen