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当前位置： Chinese homepage >> 科学研究 >> 论文成果Chapter 6: TCAD-based design technology co-optimization for variability in nanoscale SOI FinFETs
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论文类型：论文集
第一作者：Xingsheng Wang
通讯作者：Xingsheng Wang
合写作者： V. P. Georgiev, F. Adamu-Lema, L. Gerrer, S. M. Amoroso,A. Asenov
发表刊物：Integrated Nanodevice and Nanosystem Fabrication: Materials, Techniques, and New Opportunities
所属单位：Synopsys
学科门类：工学
一级学科：电子科学与技术
发表时间：2017-10-01